Le diamant pour remplacer le silicium ?

Les limites thermiques du silicium (200 °C) sont presque atteintes par les processeurs d'aujourd'hui et le diamant pourrait peut-être lui succéder car beaucoup plus résistant. En théorie, il n'y a aucun problème à l'utilisation du diamant, la fabrication de diamant synthétique pur est maîtrisée. Les problèmes auxquels font face les chercheurs viennent du fait que le diamant pur est un parfait isolant qu'il faut donc doper pour lui donner les propriétés semi-conductrices nécessaires. Deux types de dopants sont nécessaires : des dopants de type N (donneurs d'électrons) et des dopants de type P (accepteurs d'électrons). Le dopage se fait sous forme d'impuretés insérées lors du processus de fabrication. Pour ce qui est du type P, le bore convient très bien, par contre pour le type N, la recherche peine toujours avec des tests au phosphore. C'est la qu'une découverte des équipes de Jacques Chevallier et d'Alain Deneuville pourrait débloquer l'affaire : "en diffusant de l'hydrogène dans une couche de diamant contenant du bore, donc de type p, elle s'est convertie en un type n. Et qui plus est, la conductivité électrique s'est avérée 10 000 fois plus élevée que celle obtenue par l'incorporation du phosphore". Cette découverte n'est pas encore comprise des chercheurs mais la voie est peut-être bien trouvée...